POCL3/LP POCL3 扩散炉

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产品详情

主要特点:

  • 产能:最大1200片/管

  • 管数:5管

  • 压力控制:PLC和PC工控机

  • 通讯:Melsec, MES,  I/O, SECS-II等

  • 自动化集成:用于客户优化和MES控制集成的全自动化解决方案

工艺规范:

  • 方阻值:50-120Ω/cmsq

  • 工艺压力:50-100torr

  • 方阻均匀性:<5%(片内/片间/批间)

  • N型掺杂多晶硅:PH3

  • P型掺杂多晶硅:B2H6

  • 产量:4000片晶圆/小时

硬件规格:

  • 恒温区长度:1600mm

  • 温区数量:5个温区

  • 最高温度:1050℃

  • 温度均匀性:800℃-900℃±0.5℃

  • 晶圆装载法:碳化硅桨软着陆

  • 桨的最大承重:20KG

  • 工艺腔和舟的材质:石英

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